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    單晶槽式制絨設備

    設備名稱 Equipment Name

    單晶槽式制絨設備 Mono-crystalline Batch Texturing Equipment

    設備型號 Equipment Model

    SC-CSZ8000E-16F

    設備用途 Equipment Application

    主要對單晶硅太陽能電池用硅片進行絨面腐蝕和清洗處理。
    Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.

    工藝流程 Process Flow

    去損傷→預清洗→單晶制絨→后清洗或O3清洗→酸洗→預脫水→烘干(供參考)  
    Saw damage removal→Pre-cleaning→Mono-texturing→Post-cleaning/O3 cleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)


    技術特點  Features

    1、產能:400片/批, 8000片/時。
    Throughput: 400pcs/batch, 8000pcs/h.

    2、工藝槽循環量可調。
    Process bath circulation volume adjustable.

    3、制絨金字塔均勻,刻蝕深度可調。
    Uniform pyramids texture, etch depth adjustable.

    4、支持最薄120μm硅片。
    Wafer thickness handling capability up to 120μm.

    5、潔凈干燥區域,自潔凈干燥系統。
    With clean dry area and self-clean dry system.

    6、不需要加H2O2。
    H2O2 free.

    7、快速換液,在線換液。
    Quick inline bath change.

    8、支持MES、RFID及選配在線稱重功能。
    Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.


    設備參數 Parameters

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