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    管式等離子體多晶硅薄膜淀積爐

    設備名稱 Equipment Name

    管式等離子體多晶硅薄膜淀積爐  Horizontal PECVD (poly-Si)

    設備型號 Equipment Model

    PD-520


    設備用途 Equipment Application

    本設備主要用于N-TOPCon電池制備隧穿氧化層、本征poly-si、摻雜poly-si、掩膜層。

    This equipment is mainly used for the deposition of tunnel oxide layer, intrinsic poly-si layer, poly-si layer doping and mask layer for TOPCon solar cells.


    工藝流程  Process Flow

    石墨舟及硅片準備→管內充氮氣→進舟→抽真空、壓力測試→淀積多層復合膜→抽真空、壓力測試→清管路、充氮氣→退舟

    Graphite boat & wafers ready→nitrogen inlet→graphite boat load in→vacuumize, pressure test→multi layers deposition→vacuumize, pressure test→Pipe purging, nitrogen inlet→graphite boat unload


    技術特點  Features

    1、隧穿氧化層、本征poly-Si、摻雜poly-Si、掩膜層,四種工藝薄膜一次原位完成。

    Tunnel oxide layer, intrinsic Poly-Si, doping Poly-Si, mask layer, four processes completed in one in-situ doping.

    2、具備原位清洗功能。
    With in-situ clean. 

    3、雙水冷密封技術。
    Double water-cooled sealing technology.

    4、專利內加熱技術。
    Patented internal heating technology.

    5、高速平穩整體模組推舟機構。
    High-speed integral module boat pushing mechanism.

    6、懸浮承載舟技術。
    Graphite boat contact-free with quartz tube.

    7、自主知識產權MES軟件。
    MES software with independent intellectual property right.

    8、自主開發中央計算機集中控制系統。

    Independently developed CCC system.

    9、快速鍍膜技術。
    Fast coating technology.

    10、全面的防超溫、斷偶、撞舟等安全報警保護功能。

    Alarm protection for over-heating, thermocouple-break and boat collision.


    設備參數  Parameters

    PD520.png



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